上证报中国证券网讯（记者 李兴彩）12月17日，芯源微举行浸没式高产能涂胶显影机新品发布会，并通过上证报路演渠道做线上直播。这也是公司创建二十周年之际，尤其是登陆科创板之后，再度给工业和投资者交出的一份优异答卷。
芯源微介绍，本次发布的浸没式高产能涂胶显影机是公司独立研制的第三代产品。该机型选用公司首创的对称散布高产能架构，搭载公司自研的双向同步取放机械手和36个腔体（处理单元），可大起伏的进步整机的机械传送产能和传送精度，可以匹配全球干流光刻机联机出产。
前道涂胶显影设备是半导体出产的关键设备，也是本乡半导体设备范畴的“短板”。芯源微前道规划部总监程虎介绍，作为一种高速度、高精度、高洁净度的工艺设备，前道涂胶显影机的研制、量产触及多学科集成和多专业协作，需求设备商长期的技能储备和验证数据堆集。
记者了解到，涂胶显影机的开展跟从光刻技能进步，未来，光刻技能将出现两大开展的新趋势，一是光刻工艺涂层增多，比如要添加抗反射涂层；二是光刻机产能不断的进步。为了合作光刻机产能，涂胶显影机产能装备一般高出光刻机10%，这也就从另一方面代表着，涂胶显影机内单元品种和数量、传输用机械手都将大幅添加。
“现在，该款机型已通过客户端验证，到达客户量产要求。”在发布会上，程虎泄漏，为应对未来光刻机产能的不断的进步，公司本次发布的机型还可扩展至48腔，产能到达360片/小时，可在低占地面积下统筹机台易保护性，有用提高机台保护功率。
材料显现，芯源微于2002年由中科院沈阳自动化所建议创建，通过17年的尽力，公司于2019年12月登陆科创板，成为辽宁省科创板榜首股，也是国内光刻工艺设备榜首股。得益于在涂胶显影范畴的深沉堆集，公司已将事务扩展到单片式湿法设备（包含清洗、湿法刻蚀、去胶等），首要客户包含台积电、中芯世界、上海华力、长江存储、士兰微、青岛芯恩、华天科技、长电科技、三安光电等海内外闻名半导体制造商。回来搜狐，检查更加多
