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国产光刻胶开展现状:产业结构变形半导体光刻胶技能间隔显着

用途:

  光刻胶首要由感光树脂、增感剂和溶剂等首要成分组成,其首要功用是在紫外光、深紫外光或极紫外光等光照或辐射下,光刻胶发生光化学反响,经恰当溶剂处理,溶去可溶性部分,便可得到所需的图形。在光刻工艺中,光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同衬底上,经曝光、显影和刻蚀等工序,将掩膜版上的图形转移到薄膜上,光刻胶是PCB、LCD和制作中所需的要害资料。

  依照显影作用,光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶。假如显影时未曝光部分溶解于显影液,构成的图形与掩膜版相反,称之为负性光刻胶,假如构成的图形与掩膜版相同则称之为正性光刻胶。依照应用范畴不同,光刻胶可分为PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶和其他用光刻胶。

  半导体资料依照用处可分为晶圆制作资料和封装资料,光刻胶归于晶圆制作资猜中的一种。从商场规划来看,跟着全球半导体职业规划的增加,包含光刻胶在内的晶圆制作资料商场规划不断增加,并且光刻胶在半导体资猜中的比例也不断提高。晶圆制作资料商场规划由2013年的227亿美元提高至2018年的322亿美元,GAGR7.24%,而封装资料商场规划则由204亿美元下降至197亿美元,晶圆制作资料占半导体资料的比例由52.7%提高至62%。

  曩昔十年间我国半导体职业增速是全球最快的,相应的对半导体资料尤其是光刻胶的需求也是不断增加。2016-2020年,估计国内晶圆制作资料商场规划由20.9亿美元增加至40.9亿美元,封装资料商场规划由46.8亿美元增加至66.5亿美元,GAGR分别为18.3%和9.2%,尤其是晶圆制作资料将坚持两位数增速,晶圆制作资料占半导体资料的比例有望由30.9%提高至38.1%:

  别的值得注意的是,我国半导体资料商场规划占全球的比重从2016年的15.8%提高至2018年的16.4%,作为曩昔几年间全球增加最快的半导体商场,我国对半导体资料的需求日益增加。

  在全球半导体资猜中,光刻胶及其配套化学品在半导体资猜中的比重2018年为9%,在国内这一比重则到达13.61%(2017年数据),其间光刻胶为5.8%,光刻胶配套化学品占比为7.81%,国内对光刻胶的需求持续增加。2017年国内对光刻胶的需求到达7.99万吨,估计2018年到达8.44万吨,而国内产值2017年则为7.56万吨,2018年估计为8.07万吨,光刻胶产值缺乏是限制国内半导体职业开展的一个不容忽视的要素:

  本年日韩之间的交易抵触相同不容忽视,并且日本对韩国在要害半导体资猜中的卡脖子行为更值得国内投资者警觉和重视,因为在要害半导体资料范畴,日本企业占有了商场绝大部分比例,乃至对单个要害资料严峻独占。比方日本短供韩国的氟聚酰亚胺占全球商场总产值的90%,而氟聚酰亚胺资料是用于制作电视和智能手机显现面板必不可少的资料。2018年全球光刻胶商场中,日本JSR、东京应化、信越化学和富士电子资料四家企业的商场比例算计占到72%:

  我国光刻胶职业也是在国外高度独占的状况下曲折前进的。2011年至今国内光刻胶商场的全体特征是规划不断提高,但产值赶不上需求;国产化率不断提高但供应结构严峻失衡;高端产品尤其是半导体光刻胶严峻依靠进口,开展水平与国外存在很大间隔。

  我国光刻胶职业标明风景的背面是供应结构严峻失衡。全球光刻胶产品结构比较均衡,首要的三大应用范畴PCB、LCD和半导体用光刻胶占比根本适当,反观我国,PCB光刻胶占比到达94.4%,最为要害的半导体用光刻胶占比仅有1.6%:

  在技能水平上,我国光刻胶水平与国外也存在很大间隔。当时跟着半导体工艺不断进步,对半导体光刻胶的要求也越来越高,在14nm的技能节点上,KrF、ArF等深紫外光光刻胶很难满意其技能要求,尽管使用沉溺式光刻和多重曝光技能,ArF光刻胶能够满意7nm和10nm的工艺节点,但一个原因是用ArF光刻胶完成特定图形变得愈加困难,另一个原因是3/5nm的量产箭在弦上,而台积电乃至着手开发2nm的工艺,在此状况下EUV光刻胶将是为数不多的挑选之一。EUV光刻胶首要有两种类型,一个是CAR化学放大型,另一个是金属氧化物,JSR现已完成了CAR光刻胶的量产。反观国内光刻胶厂商,北京科华的非沉溺式ArF光刻胶还在认证阶段,KrF光刻胶刚刚量产,国内另一家闻名光刻胶出产企业晶瑞股份子公司姑苏瑞红的KrF光刻胶还处于研制阶段,能够说这种技能上的间隔是十分显着的:

  PCB的制作首要包含涂胶、前烘、掩盖模板、固化、曝光、显影、坚膜、刻蚀、清洗、去膜和清洗等过程,其间PCB光刻胶包含干膜光刻胶、湿膜光刻胶和光成像阻焊油墨等,现在用的最首要的种类是感光线路油墨,因为其具有重复性好、分辨率高级特色,适用于高密度双面和多层PCB板等。湿膜相对于干膜具有高精度、低成本和25-75微米的高分辨率等优势,在详细挑选上大型PCB厂商一般选用湿膜光刻胶,干膜则被小型PCB厂商亲睐。国内光刻胶首要以PCB光刻胶为主,从产能及商场规划状况来看,尽管2015年PCB商场规划到达12.6亿美元,占全球商场比例到达70%,但首要厂商产能规划仍是偏小,湿膜光刻胶容大感光和飞凯资料的产能分别为3200吨和3500吨,2019年上半年容大感光估计产能扩张到1万吨;光成像阻焊油墨容大感光、广信资料和东方资料产能分别为4800吨、6500吨(2019年上半年扩产至8000吨)和500吨。而在干膜光刻胶方面,晶瑞股份子公司姑苏瑞红和北京科华产能很少,简直能够疏忽,需求简直悉数依靠进口。

  LCD光刻胶首要有紫外正性光刻胶(TFT光刻胶)、五颜六色滤光片用光刻胶和LCD触摸屏光刻胶三大类,其间五颜六色滤光片用光刻胶可分为五颜六色和黑色两种,且均为负性胶。LCD触摸屏光刻胶国内商场规划较小。

  国内LCD光刻胶产能相同较小,国海证券研报指出,首要的厂商比方容大感光、飞凯资料等产能均以千吨计,并且部分还处于研制和试产阶段,国内自给率缺乏10%,严峻依靠进口:

  在半导体光刻胶范畴,国内厂商相同规划很小,技能现已老练并能够量产的g/i线光刻胶,北京科华的产能也就500吨罢了,半导体光刻胶愈加依靠进口:

  以上便是当时我国光刻胶职业开展现状,与快速开展的半导体职业比较,光刻胶说实话给我国半导体职业拖了后腿。

  飞凯资料的主营事务是从事高科技制作范畴适用的紫外固化资料及电子化学资料等的研讨、出产与出售,公司中心产品包含紫外固化资料和电子化学资料,其间紫外固化资料包含紫外固化光纤光缆涂覆资料及其他紫外固化资料,前者首要用于维护光导玻璃纤维免受外界影响、坚持其满足的机械强度和光学功用等,其他紫外固化资料首要为新式功用资料,用于完成如塑胶外表处理等特别功用,下流首要是PCB、3C数码电子等。

  电子化学资料首要包含湿电子化学品、光刻胶、环氧塑封料、TFT混合液晶等,首要应用于半导体制作、集成电路封装及液晶显现面板出产等范畴。

  2019年上半年飞凯资料成绩呈现较大下滑,上半年营收7.46亿元,同比增加0.5%;归母净利润1.22亿元,同比下降21.36%,公司以为成绩下滑的要素一是为了应对下流光通信及半导体职业需求下滑影响,一起为了加强公司在细分职业商场比例抢先优势,公司采取了活跃的出售方针,致使相关事务出售额和毛利率下滑,以此揣度公司或许选用降价出售策略,影响了全体成绩;二是LCD光刻胶受商场竞争加重影响,毛利率下滑,事务处于增量不增利的局势;三是上半年持续加大研制开销和本钱开销,再加上债款融资规划增大带来的财务费用影响,上半年成绩全体承压。

  分产品来看,飞凯资料上半年电子化学资料营收5.21亿元,同比增加5.21%,毛利率45.21%,同比下降7.26个百分点;紫外固化资料营收1.84亿元,同比下降13.97%,毛利率33.65%,同比下降1.58个百分点,其他收入0.41亿元,飞凯资料电子化学资料与紫外固化资料营收占比为69.8%和24.7%。2014-2018年,飞凯资料电子化学品的营收占比由14%提高至65%,而紫外固化光线%,公司事务的要点转向以光刻胶为中心的电子化学品事务。

  项目收益方面,飞凯资料IPO募投项目中,年产能3500吨的紫外固化光刻胶项目现已累计取得收益6071.71万元,年产3000吨的紫外固化塑胶涂料项目和年产3000吨的紫外固化特种丙烯酸树脂产品技改项目现已算计投入近1亿元,但尚无效益发生。新建项目方面,截止上半年,飞凯资料在建的多个LCD光刻胶相关项目(TFT光刻胶项目、TFT-LCD试验线%以上,单个项目极有或许下半年竣工并有或许逐渐投产,从项目根本概略能够看出,飞凯资料的重心仍是放在LCD光刻胶上面:

  截止2019年5月,飞凯资料具有紫外固化光纤涂覆资料产能1万吨,市占率超越60%;紫外固化塑胶涂料产能3000吨,紫外固线吨的TFT光刻胶出产线年以来飞凯资料相继收买和成显现、大瑞科技和长兴昆电,参股八亿时空,成功进入液晶资料和半导体封装资料范畴。

  因为北京科华没有上市,现在国内专门从事半导体光刻胶的企业也便是晶瑞股份了,其出产半导体光刻胶的主体是子公司姑苏瑞红。晶瑞股份2017年上市,其首要产品包含超高纯试剂、光刻胶、功用性资料和锂电池粘结剂四大微电子化学品,2017年收买江苏阳恒后公司事务切入精密电子硫酸,未来公司将构成双氧水+电子硫酸、光刻胶、功用性资料和锂电池粘结剂四大事务板块。

  在超高纯试剂事务方面,晶瑞股份出产的双氧水到达世界最高的G5规范,公司也成功导入华虹半导体供应链中,并进入了中芯世界的供应链中,现在处于验证阶段。晶瑞股份从三菱化学引进的年产9万吨电子级硫酸项目一期项目有望年末落地并逐渐放量,在超高纯试剂范畴公司行将构成双氧水+电子硫酸+氨水的事务格式。

  在半导体光刻胶方面,晶瑞股份的g线光刻胶早就量产,i线光刻胶现已经过中芯世界验证并开端量产。尽管从技能节点来看,i线光刻胶对应的技能节点到达365nm,与当时行将量产的7nm比较,间隔不是一点半点,但在中低端制程方面i线光刻胶依然是使用量最大的半导体光刻胶,在i线光刻胶商场上晶瑞股份依然能够较大起伏的做到国产化代替,现在在6英寸硅片上g/i线%。至于愈加先进的KrF光刻胶,公司现在还处于研制阶段,间隔国产化代替还有必定间隔,并且从国产化率来看,适用于8英寸硅片的KrF光刻胶国产化率缺乏5%。

  成绩方面,2019年上半年晶瑞股份营收到达3.75亿元,同比增加2.24%;归母净利润0.14亿元,同比下降39.62%。营收结构来看,上半年公司超高纯试剂营收0.8亿元,同比下降32.82%,毛利率24.09%,同比提高4.2个百分点;光刻胶营收0.35亿元,同比下降15.36%,毛利率50.48%,同比下降1.77个百分点;功用性资料和锂电池资料事务营收分别为0.33亿元和1.41亿元,同比增加1.09%和23.56%。公司光刻胶营收下降与当时半导体职业景气量欠安有关,一起从历年营收结构来看,光刻胶营收占比2016年以来一向下降:

  全体来看,尽管国内光刻胶商场规划持续增加,但国内企业在光刻胶范畴的竞争力与国外大厂比较相差甚远,这种间隔不只体现在公司规划和产能规划上,还体现在技能水平上,在国内光刻胶职业开展过程中,这是咱们需求正视的客观事实。