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Nitride开发首款用于半导体制程曝光体系的UV LED

用途:

  据外媒报导,日本Nitride Semiconductors已开宣布一款波长为365nm的UV LED芯片,并宣称是首个用于半导体和PCB制程曝光体系的紫外光源。

  据悉,用于半导体制程的曝光体系现在仍运用紫外汞灯,存在待机时间长、作业寿命短、紫外光照度稳定性低、开关操控不方便等功能性约束问题。别的,因为环境污染问题,估计《水俣条约》的施行将推进LED光源加速代替含汞光源。

  新式UV LED还具有适用于半导体曝光的窄发光角。通常情况下,半导体制程为完成精准曝光,需求运用平行光。但是,因为UV LED光源发光角比较宽(约120°),用于曝光所获的光量往往缺乏。因而,经过结合深度反射镜与高透光率透镜,该公司完成了小于或等于15°的发光角。这表明UV LED有或许直接替换传统曝光体系所用的UV光源,无需购买新的UV LED曝光体系。