此次在前道光刻范畴的打破，将进一步翻开公司的生长空间，为盛美上海在长时刻多维度上获得继续高生长的成绩打下坚实基础。
智通财经APP讯，11月18日，盛美上海(688082.SH)通过线上会议举行了科创板上市周年庆暨新品发布会。
此次发布的新产品是前道涂胶显影设备Ultra LITH，这标志着盛美上海慎重进入了半导体前道光刻范畴。
该新品用于前道300mm晶圆的涂胶显影，具有4个12英寸装载端口，8个涂胶腔和8个显影腔，可进一步扩展到12个涂胶腔和12个显影腔，适用于i-line、KrF和ArF等多种资料的涂胶显影工艺。
早在2013年时，盛美上海便研制出了用于后道封装的涂胶显影设备，并于2014年获得首台订单。在通过多年涂胶显影技能的堆集后，公司总算在前道光刻范畴迎来打破。
据悉，Ultra LITH设备是采用了自主全球专利维护的全新体系结构设计，具有安稳的电控架构及强壮的软件体系，且具可扩张性，能支撑300 WPH及未来下一代高产出光刻机400 WPH的更高产出需求;搭载了高速安稳的机械手体系，多机械手协同合作，可完成晶圆传输途径的优化，进步传输功率。
一起，该设备的内部气流散布进行了优化处理，可削减颗粒污染，强壮的清洗技能亦可支撑未来浸没式光刻机对硅片反面的颗粒清洗需求;此外，分区操控的高精度热板由公司自主研制，已达到业界领先水平。且该设备适配性强，支撑干流的光刻机接口，第一台设备出货便可进行与光刻机的对接测验。
Ultra LITH的发布，代表着以整理洗刷设备发家的盛美上海在半导体制作工艺中的布局“再下一城”。其实，自2021年11月18日在科创板上市至今，仅一年的时刻，盛美上海便已发布了包含此次的前道涂胶显影设备在内的合计8款产品，触及了半导体及新式化合物半导体制作工艺的电镀、清洗、薄膜堆积、涂胶显影等多个环节，凸显了公司的强壮研制实力。
而这背面，是盛美上海继续推动产品多元化、渠道化开展的战略的详细表现，此次在前道光刻范畴的打破，将进一步翻开公司的生长空间，为盛美上海在长时刻多维度上获得继续高生长的成绩打下坚实基础。
